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中國科學(xué)院蘇州納米所孫錢研究員團(tuán)隊與土耳其博盧阿巴特伊茲特貝薩爾大學(xué)Yilmaz Ercan教授團(tuán)隊展開聯(lián)合攻關(guān),成功開發(fā)出基于常關(guān)型GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)的高性能紫外探測器,顯著提升了響應(yīng)度、紫外-可見截止比、響應(yīng)速度,為智能傳感、環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域提供了創(chuàng)新解決方案。該系列研究工作發(fā)表于ACS Photonics11, 180 (2024)、Applied Physics Letters 126, 192101 (2025)、IEEE Transactions on Electron Dev

5月23日,2025功率半導(dǎo)體器件與集成電路會議(CSPSD)在南京熹禾涵田酒店盛大啟幕。新微半導(dǎo)體總經(jīng)理王慶宇應(yīng)邀出席,發(fā)表了題為“氮化鎵賦能未來:突破功率極限,引領(lǐng)能效革命”的主旨演講,深度解讀氮化鎵在能效領(lǐng)域的卓越優(yōu)勢

近日,澳大利亞激光公司BluGlass展示了其單模氮化鎵(GaN)激光器:單個激光芯片成功實現(xiàn)1250mW的功率輸出,且同時維持單空間模

5月16日,華潤微電子功率器件事業(yè)群潤新微電子在大連舉辦氮化鎵億顆芯片慶典暨外延生產(chǎn)基地通線儀式。華潤微電子副總裁莊恒前強(qiáng)

近期,寬禁帶半導(dǎo)體國家工程研究中心郝躍院士、馬曉華教授團(tuán)隊在氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)領(lǐng)域取得重要突破,成

4月16日,美國Polar Semiconductor公司宣布與日本瑞薩電子株式會社(簡稱瑞薩電子)達(dá)成戰(zhàn)略協(xié)議,獲得其硅基氮化鎵(GaN-on-Si

氮化鎵(GaN)晶體作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體的代表性材料,具有帶隙寬、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率高、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)異性能,在藍(lán)綠激

納微半導(dǎo)體今日宣布其高功率旗艦GaNSafe氮化鎵功率芯片已通過AEC-Q100和AEC-Q101兩項車規(guī)認(rèn)證,這標(biāo)志著氮化鎵技術(shù)在電動汽車市

YS/T 1654-2023《氮化鎵化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素含量的測定 輝光放電質(zhì)譜法》標(biāo)準(zhǔn)解讀國標(biāo)(北京)檢驗認(rèn)證有限公司劉紅一、

英諾賽科(02577.HK)公告,公司發(fā)布了自主開發(fā)的1200V氮化鎵(GaN)產(chǎn)品,該款產(chǎn)品憑藉寬禁帶特性,在高壓高頻場景優(yōu)勢顯著,具備零

國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,江西譽(yù)鴻錦材料科技有限公司取得一項名為種亞垂直結(jié)構(gòu)氮化鎵肖特基勢壘二極管及其制造方法的專利,授權(quán)

服務(wù)多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球排名前列的半導(dǎo)體公司意法半導(dǎo)體(簡稱ST)與8英寸高性能低成本硅基氮化鎵(GaN-on-Si)制造全球領(lǐng)軍

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氮化鎵(GaN)正在重塑半導(dǎo)體行業(yè)游戲規(guī)則。近日,九峰山實驗室已從材料、器件到產(chǎn)業(yè)應(yīng)用取得一系列突破性成果。九峰山實驗室8英

近日,九峰山實驗室科研團(tuán)隊在全球首次實現(xiàn)8英寸硅基氮極性氮化鎵(N-polar GaNOI)高電子遷移率材料的制備。該成果將助力射頻前

九峰山實驗室GaN系列成果首次重磅發(fā)布!在顛覆性材料、器件及設(shè)計創(chuàng)新、系統(tǒng)級應(yīng)用創(chuàng)新方面,重磅發(fā)布國際首創(chuàng)8英寸硅基氮極性氮化鎵襯底(N-polar GaNOI)、全國首個100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺、動態(tài)遠(yuǎn)距離無人終端無線能量傳輸完成示范驗證。

國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,安徽格恩半導(dǎo)體有限公司申請一項名為一種氮化鎵基化合物半導(dǎo)體激光器的專利,公開號CN 119627617 A,申

國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,廣東芯賽威科技有限公司取得一項名為電源管理芯片及電源管理電路的專利,授權(quán)公告號 CN 222563696 U,

3月10日,上海新微半導(dǎo)體有限公司(簡稱新微半導(dǎo)體)正式推出650V硅基氮化鎵增強(qiáng)型(E-mode)功率工藝代工平臺。該平臺憑借高頻

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