?5月27日，中微公司2024年度暨2025年第一季度業績說明會于臨港產業化基地成功舉辦，眾多機構投資人、證券分析師及媒體等嘉賓蒞臨現場，還有廣大投資者通過上證路演、價值在線等平臺遠程線上參會。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士及公司管理層出席會議并分享了公司2024年度及2025年第一季度的經營狀況。
中微公司董事長兼總經理尹志堯博士分享業績亮點
業績說明會上，尹志堯博士及其他高管向廣大投資者分享了業績亮點及戰略布局。尹志堯博士談到，面對復雜多變的外部環境，中微公司站在先進制程工藝發展的最前沿，與國際領先的半導體客戶公司同步前行。憑借強有力的研發團隊和深厚的客戶關系，開發出一個又一個成功的刻蝕設備和薄膜設備，快速進入市場，為集成電路和泛半導體微觀器件的客戶提供極具競爭力和高性價比的設備產品，并不斷提高市場占有率。公司累計已有超過6000臺等離子和化學薄膜的反應臺，在國內外137條生產線實現量產和大規模重復性銷售。 根據市場及客戶需求，公司顯著加大研發力度，目前公司在研項目涵蓋六大類，超過二十款新設備的開發。公司研發新產品的速度顯著加快，過去通常需要三到五年開發一款新設備，現在只需兩年或更短時間就能開發出有競爭力的新設備，并順利進入市場。2024年公司研發總投入達到24.5億元，比2023年增加了94.3%，占營業收入比例約為27%，遠高于科創板上市公司平均研發投入占收入比例的10%到15%。
業績說明會現場
2024年公司實現營業收入約90.65億元，較2023年增加約28.02億元。公司在過去13年保持營業收入年均增長大于35%、近四年營業收入年均增長大于40%的基礎上，2024年營業收入又同比增長約44.73%。其中，刻蝕設備收入約72.77億元，在最近四年收入年均增長超過50%的基礎上，2024年又同比增長約54.72%，公司的綜合競爭優勢繼續得到強化和提升，各項營運的KPI指標已媲美國際先進水平，甚至在按期交付和每臺缺陷等關鍵指標方面超過了國際領先半導體設備企業的水平。中微公司聚焦提高勞動生產率，在2022年達到人均銷售350萬元的基礎上，2024年人均銷售超過了400萬元，達到了設備產業國際先進水平。
中微公司董事長兼總經理尹志堯博士分享演講
尹志堯博士針對投資者關心的問題分享到，中微公司目前正在開發更有競爭力的用于集成電路微觀制造的新一代的高能CCP等離子體刻蝕設備、新一代的ICP低能等離子體刻蝕設備、晶圓邊緣刻蝕設備、新一代等離子體源的PECVD設備、LPCVD及ALD等薄膜設備、外延EPI設備和電子束量檢測等設備。近些年隨著先進封裝市場快速發展，中微公司針對先進封裝的產品布局也從已批量進入生產線的CCP等離子體刻蝕設備、TSV深硅刻蝕設備，開始開發PVD、CVD和量檢測設備等，為客戶提供全面解決方案。中微公司十幾年來也不斷布局泛半導體微觀制造領域，包括制造氮化鎵基發光二極管，Mini-LED和Micro-LED的MOCVD設備，制造碳化硅和氮化鎵功率器件的MOCVD設備等。中微公司在2023年底決定開發大平板設備，以盡快填補國內在這個領域的空白。其中包括新型顯示技術領域所需的核心薄膜及等離子體刻蝕等設備，并取得了比計劃超前很多的進展。
業績說明會問答交流環節
截至2025年3月底，公司累計申請專利2,941項，其中發明專利2,443項，占比達83%。公司兩次榮獲“中國專利金獎”，多次榮獲“中國專利優秀獎”、“上海市發明創造專利獎”和“上海市知識產權創新獎”等獎項。在國際權威的全球半導體設備客戶滿意度近五年的調查評比中，中微公司四次獲得總評分第三，薄膜設備四次被評為第一。 中微公司在上海臨港新片區建造的18萬平米新的研發和生產基地，2024年第一年實現量產，就達到年生產總值85億人民幣。南昌中微在高新區建造的14萬平米的生產和研發基地，在2024年達到了年生產總值61億人民幣。中微公司10萬平米的總部雙塔大樓，今年底將在臨港滴水湖建成。隨著產品線的快速拓展，為了更好的貼近客戶，中微計劃在廣州增城區及成都高新區建造生產和研發基地，確保今后十年有足夠的廠房，以保證眾多新產品研發和產能高速增長的需求。
會后，與會嘉賓們參觀了臨港產業化基地的多媒體展廳、潔凈室等生產區域。
與會嘉賓參觀研發與生產潔凈室
未來，中微公司將瞄準“打造世界級裝備企業”戰略目標，不斷開發更多的高端設備產品，持續提升產品的性能和質量、提高運營效率和風險管控能力，認真貫徹“五個十大”，即“產品開發十大原則”，“戰略銷售十大準則”，“營運管理十大章法”，“精神文化十大作風”和“領導能力十大要點”，堅持三維立體發展戰略，堅持有機生長和外延擴展的策略，實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展，力爭盡早成為高端設備平臺公司，在規模上和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司！ （來源：中微公司） ?