?據(jù)合肥新站區(qū)消息，4月3日，合肥新站高新區(qū)與芯越微、正帆科技正式簽約。

據(jù)悉，芯越微電子材料（嘉興）有限公司主要從事功能性微電子材料（濕電子化學(xué)品）研發(fā)生產(chǎn)銷售，核心產(chǎn)品應(yīng)用于高端半導(dǎo)體及面板行業(yè)的多個(gè)關(guān)鍵工藝，其中顯影液、刻蝕液、光刻膠剝離液等產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，公司致力于打破國(guó)內(nèi)功能性微電子材料被外資品牌壟斷的局面，早日實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代。簽約的功能性微電子材料項(xiàng)目總投資3億元，用地面積約32.5畝，從事顯影液、刻蝕液、光刻膠剝離液、清洗液、拋光液的生產(chǎn)制造，預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)后年產(chǎn)值約5億元。

上海正帆科技股份有限公司主要從事制程關(guān)鍵系統(tǒng)與裝備、核心材料的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，以及供應(yīng)鏈管理、檢測(cè)與數(shù)據(jù)等業(yè)務(wù)。產(chǎn)品覆蓋集成電路、太陽(yáng)能光伏、平板顯示、光纖制造和生物制藥等領(lǐng)域。簽約項(xiàng)目總投資約8.4億元，占地約50畝，計(jì)劃建設(shè) ALD （原子層沉積）先進(jìn)涂層材料及研發(fā)中心、超高純大宗氣體項(xiàng)目，其中ALD （原子層沉積）先進(jìn)涂層材料可用于新型顯示、汽車、光伏等領(lǐng)域。