據(jù)寧波前灣新區(qū)發(fā)布消息，3月19日上午，寧波冠石半導體光掩模版制造項目舉行新品發(fā)布暨通線活動。

寧波冠石半導體是一家專業(yè)從事半導體光掩模版制造的企業(yè)。寧波冠石光掩模版制造項目2023年5月16日簽約，同年10月1日落地開工，2024年1月27日落成結(jié)頂，如今項目通線投產(chǎn)，用時不到兩年，完成固定資產(chǎn)投資超10億元，畝均有效投資強度超1500萬元。

2024年7月消息，寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，該企業(yè)引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉，該設備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點研發(fā)的重點設備。

據(jù)悉，光掩模版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，其功能類似于相機的“底片”。作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口，國產(chǎn)化率極低。

目前，寧波冠石已實現(xiàn)55nm光掩模版產(chǎn)品交付及40nm產(chǎn)線通線，該企業(yè)產(chǎn)品將廣泛應用于人工智能、高性能計算、新能源汽車、消費電子等集成電路制造領域。